Plasma par induction pour le traitement du silicium à usage photovoltaïque

Nous avons mis au point une technologie innovante de Plasma par induction pour traiter le silicium à destination du photovoltaïque, qui permet de traiter thermiquement le titane et le silicium dans les secteurs de la métallurgie et de la fonderie.

Nos produits appliqués au plasma offrent un traitement thermique simplifié par rapport aux techniques traditionnelles. Un système plasma d’EFD Induction d’une puissance de sortie de 100 kW avec un jet de plasma de 500 mm produit en moyenne 100 kg de titane par jour.

De plus, les enthalpies très élevées obtenues par les systèmes plasma d’EFD Induction permettent d’obtenir un titane et un silicium d’une très grande pureté. (Le plasma par induction peut atteindre des températures allant de 5 000 à 11 000ºC.)

Le titane préparé à l’aide du plasma d’EFD Induction est utilisé pour la fabrication d’implants chirurgicaux et dentaires. Il est également employé dans les industries de la métallurgie des poudres et de l’aérospatiale. Le silicium peut également être utilisé pour produire des cellules solaires car il présente une pureté précisément adaptée à ce type d’application.